(1) 浴法拋光：浴法拋光是指工件和拋光盤都浸在拋光液中（zhōng），所用裝置示意圖拋光（guāng）液的深度以設備靜止時淹（yān）沒（méi）工件 10～15mm 為宜，

攪拌器是使拋光液處於（yú）懸浮狀態，不產生沉（chén）澱，拋光玻（bō）璃時一般使用（yòng）氧化鐵(紅粉)、氧化鋁等拋光材料。

 

 

(2) 離子束拋（pāo）光：離子束拋光是（shì）玻璃工（gōng）件在傳統拋光後，用來進一步（bù）提高拋光精度的補充拋光方法。

先在真空(1.33Pa)條件下，將惰性氣體(氬、氪、氙等（děng）)原子使用高頻或放電等方法使之成為離子，再用20～25kV的電壓加速，

然後碰（pèng）撞到（dào）位於1.33×10 Pa真空度的真 空室內的被加工（gōng）工件表麵上，將能量直接傳給工件材料原子，使其逸出表麵而（ér）被去除。

 

 

這種方法可（kě）以使工件去（qù）除厚度（dù）達（dá）10～20μm，是典型的用物理碰撞方法進行的拋（pāo）光技術，

一般情況下表麵粗糙（cāo）度可達0.01μm，精度高的達0.6nm。

 

 

(3) 等離子體輔助拋光：等離子體輔（fǔ）助拋光是利用化學反應來（lái）去除表麵（miàn）材料而實現拋光的方（fāng）法，

采用特定氣體，製成活性等離子體，當活性等離子體與工件表（biǎo）麵作用，發（fā）生化學反應，

生成易揮（huī）發的混合氣體（tǐ），從而將工件表（biǎo）麵材料去（qù）除。

 

 

由於（yú）玻璃研磨時，機械作（zuò）用是主要的，所以磨料的硬度必須大（dà）於玻（bō）璃的硬度。 光學玻璃和日用玻璃研磨加工餘量大（dà），

所以一（yī）般用（yòng）剛玉或天然（rán）金剛砂研磨效（xiào）率高。平板（bǎn）玻璃的研磨加工餘量小（xiǎo），但麵（miàn）積大，用量多，一般采用（yòng）價廉的石英砂（shā）。

常用拋光材料有紅粉（氧化鐵）、氧化鈰、氧化鉻、氧化鋯、氧化釷等，日用玻璃加工也有采用長石粉的。

光（guāng）學產品新型拋光技術對於光學玻璃加（jiā）工，傳統的研磨及拋（pāo）光方法，從精度和效率方麵已不適應（yīng）。

 

 

目（mù）前發展了許多新的加工技術，如數控研磨和拋光技術、離子束拋光技（jì）術、應力盤拋光技（jì）術（shù）、超光滑表麵加工技術、

延展性磨削加工、彈性發射拋光（guāng）法、激光拋（pāo）光、震（zhèn）動拋光等，這些新（xīn）技術，已 完全適應光學領域迅猛發展的（de）要求。

光學透鏡新的加（jiā）工技術，都邊檢測、邊修正，不僅加工精度（dù）高，而且加工速度提高（gāo）幾倍到幾十倍，對人工技術的（de）依賴性（xìng）已很小，

新研磨和拋光技術的智（zhì）能化（huà）程度都很高，重複精度（dù）高。數控研磨（mó）和拋光（guāng）、應力盤拋（pāo）光技術（shù）等，專門針對球麵和 非球麵光學透鏡的加工，非常專業化。

 

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